2025-12-03 08:35:28
3nm 先进半导体制程对配套材料的性能要求达到新高度,电子氟化液作为温控和清洗介质,必须适配更严苛的工艺标准,油邦手电子氟化液系列完全满足这一要求。该电子氟化液的金属杂质含量 < 1ppt,达到超高纯度标准,避免了杂质污染晶圆;在光刻环节控温精度 ±0.05℃,蚀刻环节晶圆温度波动 250℃,能适配化工反应器 - 20℃至 150℃的工作温度区间,即使在反应器升温、降温的剧烈变化中,也能保持稳定的控温性能。电子氟化液的化学惰性确保了不会与反应器内的化工原料发生反应,且无残留、不污染产物,同时热传导效率高,能快速响应反应器的温度调节需求,让电子氟化液成为化工控温的可靠介质。油邦手电子氟化液无色无味无刺激,操作人员使用更**,提升作业环境舒适度。

半导体蚀刻环节的温度波动会直接影响晶圆加工精度,电子氟化液成为该环节温控的选择,油邦手电子氟化液系列能满足蚀刻工艺的温度要求。在干法刻蚀环节,电子氟化液需将刻蚀腔体温度控制在 15-40℃,控温精度 ±0.1℃,同时将晶圆温度波动控制在